膜厚参数：稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95%腔体尺寸： 400*400*630mm真空系统：分子泵（国产/进口）极限真空：3*10 -5Pa电子枪：进口5-12KW电子枪4-6穴坩埚基片尺寸：4-6英寸可定制软件：半自动与全自动软件控制
