膜厚参数:稳定镀膜速率0.1Å/S膜厚均匀性 ≥95%腔体尺寸: 400*400*630mm真空系统:分子泵(国产/进口)极限真空:3*10 -5Pa电子枪:进口5-12KW电子枪4-6穴坩埚基片尺寸:4-6英寸可定制软件:半自动与全自动软件控制