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磁控溅射镀膜机TW300

膜厚参数:膜厚均匀性 ≥95%

腔体尺寸:400*400*500mm

真空系统:分子泵(国产/进口)

极限真空:5*10 -5Pa

真空靶:≤3寸,2-4个(国产/进口)

基片尺寸:≤ 6寸 (加热/水冷)

软件:半自动与全自动软件控制


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